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常見問題

氧化硅拋光液是什么?

來源:  發(fā)布時間:2025-04-07 15:04:58   點擊量:

由納米二氧化硅顆粒、溶劑、化學助劑等成分組成;
用于材料表面平坦化處理,是 CMP 工藝的核心材料之一;
通過化學腐蝕作用和機械磨削作用配合去除材料表面缺陷、降低表面粗糙度;
其性能直接影響被加工材料表面質量和加工效率。

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